晶圓制造

2025-07-10

掩模版對準?：滑臺控制掩模版與晶圓的相對位置，精度最高可達±50nm，確保曝光圖案無偏移（如EUV光刻機）。 ?

鏡頭定位?：壓電滑臺驅動物鏡進行納米級調焦（分辨率0.2nm），補償熱變形導致的焦距誤差。 ?

案例?：直線電機滑臺配合激光干涉儀，實現光刻機工作臺的亞納米級運動控制，滿足7nm以下制程需求。

?等離子體刻蝕?：滑臺精準移動晶圓至反應腔體指定區域，均勻性誤差≤0.1μm，避免刻蝕深度不均。

?CVD/PVD鍍膜?：多軸滑臺控制鍍膜噴嘴路徑，確保薄膜厚度一致性（波動＜±3%）。

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